（1）灌注模型的方法和要求：同可摘局部義齒。脫模后，對(duì)模型進(jìn)行檢查：模型邊緣應(yīng)有一定寬度，以便反映出唇頰黏膜移行皺襞處的外形；模型要有適當(dāng)厚度，一般不少于10mm，防止模型折斷。
（2）上頜模型后堤區(qū)的處理：在修整好的上頜模型上，用鉛筆畫(huà)出兩側(cè)翼上頜切跡和腭小凹后2mm的連線。用雕刻刀沿著連線刻一深約l～1.5mm的溝，再沿此溝向前逐漸變淺呈楔形刮除石膏，最寬處約5mm，形成弓形后堤區(qū)。
（3）上頜后堤區(qū)的檢查：用口鏡柄沿腭小凹探壓兩側(cè)腭黏膜，一直壓至翼上頜切跡的黏膜溝處，有彈性部位即為后堤區(qū)。后堤區(qū)呈弓形，有的因腭中縫隆起明顯而使其中斷為兩個(gè)小弓形。依照檢查結(jié)果，用有色鉛筆在黏膜上畫(huà)出后堤區(qū)的范圍。在取得的終印模上即有鉛筆印記，用變色筆描記清楚，灌注工作模型時(shí)，后堤區(qū)的范圍即可印在模型上。
（2）上頜模型后堤區(qū)的處理：在修整好的上頜模型上，用鉛筆畫(huà)出兩側(cè)翼上頜切跡和腭小凹后2mm的連線。用雕刻刀沿著連線刻一深約l～1.5mm的溝，再沿此溝向前逐漸變淺呈楔形刮除石膏，最寬處約5mm，形成弓形后堤區(qū)。
（3）上頜后堤區(qū)的檢查：用口鏡柄沿腭小凹探壓兩側(cè)腭黏膜，一直壓至翼上頜切跡的黏膜溝處，有彈性部位即為后堤區(qū)。后堤區(qū)呈弓形，有的因腭中縫隆起明顯而使其中斷為兩個(gè)小弓形。依照檢查結(jié)果，用有色鉛筆在黏膜上畫(huà)出后堤區(qū)的范圍。在取得的終印模上即有鉛筆印記，用變色筆描記清楚，灌注工作模型時(shí)，后堤區(qū)的范圍即可印在模型上。