知識產權法律體系一般包括以下幾種法律制度：
（一）著作權法律制度。以保護文學、藝術、科學作品的創(chuàng)作者和傳播者的專有權利為宗旨，其客體范圍除一般意義上的作品外，還應包括民間文學藝術和計算機軟件。
（二）專利權法律制度。以工業(yè)技術領域的發(fā)明創(chuàng)造成果為保護對象，其專有權利包括發(fā)明專利權、實用新型專利權、外觀設計專利權。
（三）工業(yè)版權法律制度。兼有著作權、專利權雙重因素的新型知識產權，表現(xiàn)為集成電路布圖設計專有權等。一般采取獨立于著作權法與專利法之外的單行法規(guī)形式。
（四）商標權法律制度。一種主要的工業(yè)產權法律制度，其保護對象包括商品商標和服務商標
（五）商號權法律制度。對工商企業(yè)名稱或字號的專用權進行保護的法律制度。其立法形式可采取單行法規(guī)形式，也可采取與商標權合并立法形式。
（六）產地標記權法律制度。以貨源標記或原產地名稱為保護對象，禁止使用虛假產地標記的法律制度。其立法形式一般規(guī)定在反不正當競爭法中，也可單行制定法規(guī)。
（七）商業(yè)秘密權法律制度。以未公開的信息包括經營秘密和技術秘密為保護對象的法律制度?？梢灾贫▎涡蟹ㄒ?guī)，亦可列入反不正當競爭法中。
（八）反不正當競爭法律制度。制止生產經營活動中不正當損害他人知識產權行為的專門法規(guī)，適用于各項知識產權制度無特別規(guī)定或不完備時需要給予法律制裁的侵害事實。
（一）著作權法律制度。以保護文學、藝術、科學作品的創(chuàng)作者和傳播者的專有權利為宗旨，其客體范圍除一般意義上的作品外，還應包括民間文學藝術和計算機軟件。
（二）專利權法律制度。以工業(yè)技術領域的發(fā)明創(chuàng)造成果為保護對象，其專有權利包括發(fā)明專利權、實用新型專利權、外觀設計專利權。
（三）工業(yè)版權法律制度。兼有著作權、專利權雙重因素的新型知識產權，表現(xiàn)為集成電路布圖設計專有權等。一般采取獨立于著作權法與專利法之外的單行法規(guī)形式。
（四）商標權法律制度。一種主要的工業(yè)產權法律制度，其保護對象包括商品商標和服務商標
（五）商號權法律制度。對工商企業(yè)名稱或字號的專用權進行保護的法律制度。其立法形式可采取單行法規(guī)形式，也可采取與商標權合并立法形式。
（六）產地標記權法律制度。以貨源標記或原產地名稱為保護對象，禁止使用虛假產地標記的法律制度。其立法形式一般規(guī)定在反不正當競爭法中，也可單行制定法規(guī)。
（七）商業(yè)秘密權法律制度。以未公開的信息包括經營秘密和技術秘密為保護對象的法律制度?？梢灾贫▎涡蟹ㄒ?guī)，亦可列入反不正當競爭法中。
（八）反不正當競爭法律制度。制止生產經營活動中不正當損害他人知識產權行為的專門法規(guī)，適用于各項知識產權制度無特別規(guī)定或不完備時需要給予法律制裁的侵害事實。