人類活動排入大氣中的一些物質(zhì)進(jìn)入平流層與那里的臭氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致臭氧耗損，使臭氧濃度減少的現(xiàn)象被稱作臭氧層破壞或臭氧層損耗。
臭氧層中的臭氧是在離地面較高的大氣層中自然形成的，其形成機(jī)理是：
O2 紫外輻射 O＋O （高層大氣中的氧氣受陽光紫外輻射變成游離的氧原子）
O2＋O O3 （有些游離的氧原子又與氧氣 結(jié)合就生成了臭氧，大氣中 90%的臭氧是以這種方式形成 的）
O3是不穩(wěn)定分子，來自太陽的紫外輻射既能生成O3，也能使O3分解，產(chǎn)生O2分子和游離O原子，因此大氣中臭氧的濃度取決于其生成與分解速度的動態(tài)平衡。
人為消耗臭氧層的物質(zhì)主要是：廣泛用于冰箱和空調(diào)制冷、泡沫塑料發(fā)泡、電子器件清洗的氯氟烷烴（CFCs）以及用于特殊場合滅火的溴氟烷烴（Halons哈龍）等化學(xué)物質(zhì)。這些物質(zhì)被稱為消耗臭氧層物質(zhì)，國際社會為了保護(hù)臭氧層，將這些物質(zhì)列入淘汰或受控制使用的名單中，因此也稱這些物質(zhì)為“受控物質(zhì)”。
消耗臭氧層的物質(zhì)，在大氣的對流層中是非常穩(wěn)定的，可以停留很長時間，以CFC12為例，它在對流層中壽命長達(dá)120年左右，因此這類物質(zhì)可以擴(kuò)散到大氣的各個部位，但是到了平流層后，就會被太陽的紫外輻射分解，釋放出活性很強(qiáng)的游離氯原子或溴原子，參與導(dǎo)致臭氧損耗的一系列化學(xué)反應(yīng)：游離的氯原子或溴原子與O3分子反應(yīng)，產(chǎn)生氯或溴的一氧化物，奪走O3分子的一個氧原子，使之變成氧分子。氯或溴的一氧化物與游離的氧原子反應(yīng)，釋放“奪來”的氧原子，形成更多的氧分子和游離氯原子或游離溴原子，新的游離氯原子或溴原子重新與其它O3分子反應(yīng)，再度生成O2分子和氯或溴的一氧化物，這樣的反應(yīng)循環(huán)不斷，每個游離氯原子或溴原子可以破壞約10萬個O3分子，這就是氯氟烷烴或溴氟烷烴破壞臭氧層的原因。
破壞臭氧層的過程可表示如下：
含氯或含溴的化合物 太陽紫外輻射 游離Cl（或Br）
O3＋Cl（或Br） ClO（或BrO）＋O2
ClO（或BrO）＋O 游離Cl（或Br）+O2
臭氧層中的臭氧是在離地面較高的大氣層中自然形成的，其形成機(jī)理是：
O2 紫外輻射 O＋O （高層大氣中的氧氣受陽光紫外輻射變成游離的氧原子）
O2＋O O3 （有些游離的氧原子又與氧氣 結(jié)合就生成了臭氧，大氣中 90%的臭氧是以這種方式形成 的）
O3是不穩(wěn)定分子，來自太陽的紫外輻射既能生成O3，也能使O3分解，產(chǎn)生O2分子和游離O原子，因此大氣中臭氧的濃度取決于其生成與分解速度的動態(tài)平衡。
人為消耗臭氧層的物質(zhì)主要是：廣泛用于冰箱和空調(diào)制冷、泡沫塑料發(fā)泡、電子器件清洗的氯氟烷烴（CFCs）以及用于特殊場合滅火的溴氟烷烴（Halons哈龍）等化學(xué)物質(zhì)。這些物質(zhì)被稱為消耗臭氧層物質(zhì)，國際社會為了保護(hù)臭氧層，將這些物質(zhì)列入淘汰或受控制使用的名單中，因此也稱這些物質(zhì)為“受控物質(zhì)”。
消耗臭氧層的物質(zhì)，在大氣的對流層中是非常穩(wěn)定的，可以停留很長時間，以CFC12為例，它在對流層中壽命長達(dá)120年左右，因此這類物質(zhì)可以擴(kuò)散到大氣的各個部位，但是到了平流層后，就會被太陽的紫外輻射分解，釋放出活性很強(qiáng)的游離氯原子或溴原子，參與導(dǎo)致臭氧損耗的一系列化學(xué)反應(yīng)：游離的氯原子或溴原子與O3分子反應(yīng)，產(chǎn)生氯或溴的一氧化物，奪走O3分子的一個氧原子，使之變成氧分子。氯或溴的一氧化物與游離的氧原子反應(yīng)，釋放“奪來”的氧原子，形成更多的氧分子和游離氯原子或游離溴原子，新的游離氯原子或溴原子重新與其它O3分子反應(yīng)，再度生成O2分子和氯或溴的一氧化物，這樣的反應(yīng)循環(huán)不斷，每個游離氯原子或溴原子可以破壞約10萬個O3分子，這就是氯氟烷烴或溴氟烷烴破壞臭氧層的原因。
破壞臭氧層的過程可表示如下：
含氯或含溴的化合物 太陽紫外輻射 游離Cl（或Br）
O3＋Cl（或Br） ClO（或BrO）＋O2
ClO（或BrO）＋O 游離Cl（或Br）+O2